2023堀場雅夫賞 応募要領

概要

2023 応募要領ガイドライン(PDF版)

 

対象分野

次世代半導体デバイスの開発に貢献する分析・計測技術を対象とします。

1)次世代のパワーデバイスや光エレクトロニクスデバイスの実現に必要となる新規構造・新規材料の
開発やデバイスの試作、生産プロセスおよびデバイスの実装工程の確立に寄与する分析・計測技術

2)光電融合プロセッサや量子コンピューティングの早期実現に寄与する分析・計測技術

＊分析・計測の対象は将来の発展性が期待される化合物半導体を用いたデバイスに加え、革新的なシリコン半導体
デバイスも含みます。

 

応募者資格

大学、公的試験機関に所属し、上記分野の研究・開発に従事し、以下のいずれかに該当する、研究者・技術者。

• 上記対象分野において、学術上、技術上の優れた発見、発明を成すことが期待されていること
• 上記対象分野において、学術上、技術上の重要な課題の解決が期待されていること

なお、年齢条項は設けておりませんが、賞の趣旨に則り、応募者の将来性を重視した審査を行います。

 

表彰内容

2023年10月17日（火）に京都大学国際科学イノベーション棟において挙行する授賞式にて、本賞の授与ならびに副賞の贈呈を執り行うとともに、副賞として、200万円を授与します（初年度100万円、次年度100万円）。なお本賞および副賞の受賞は、応募研究を公表できることを条件とします。

 

応募

本賞ホームページの応募はこちらをクリックして頂き、①応募用紙（日本語、英語）、②推薦書（日本語、英語）、③関連論文のファイルをご準備の上、応募願います。

応募書類、推薦書に捺印、署名の必要はございません。但し、応募者と推薦者の認証のため、応募仮受付け後に応募者と推薦者に確認のメールを送らせていただきます。応募者と推薦者を認証する手続きになりますので、メールの内容をご確認いただき、応募者と推薦者より必ずご返信をお願いいたします。事務局にて返信メールを確認できましたら、応募は正式受理となります。応募エントリーから正式受理の通知まで、数日要しますのでご了承ください。

 

応募期間

2023年3月15日（水）～  5月15日（月） ※応募受付は終了しました。
※ 5月15日までに当ウェブサイトからご応募ください。
※ 応募手続き後、認証手続きに関するメールが届きましたら速やかにメールをご返信ください。

 

応募手続きの流れ

 

選考結果の通知

諸般の事情により今年度の受賞者発表、通知が遅れております（8月4日現在）。
ご応募いただきました皆様には深くお詫び申し上げます。
受賞者発表まで今しばらくお待ちくださいますよう、お願いいたします。

 

授賞式および受賞記念セミナー

2023年10月17日（火）に京都大学国際科学イノベーション棟※（京都市左京区）にて実施します。
※会場や実施方法を変更する場合は、本賞ホームページにてご案内します

 

お問い合わせ先

〒601-8510
京都市南区吉祥院宮の東町2番地
株式会社堀場製作所内 堀場雅夫賞事務局
TEL：075-325-5110
E-mail：info@mh-award.org
URL：http://www.mh-award.org/