2009年受賞

テーマ

半導体および関連分野における材料表面の高感度・非破壊分析計測技術

シリコン半導体分野ではデバイス構造の微細化がいっそう進み、高速性、高性能化、小型化へ進化しています。また、液晶パネルに代表されるフラットパネルディスプレイ分野でも、人が画像を見て自然に美しく感じる画像表現となるように、各種技術が開発されています。これらの進化は、多岐にわたる材料開発とそれらを安定に造り上げる生産プロセス技術開発の賜物です。さらに、生産プロセスにおいてはプロセスに関わっている材料の表面状態を把握し制御すること、即ち、コンタミネーションコントロールが必須です。

2009堀場雅夫賞は、半導体材料表面コンタミネーションの高感度・非破壊計測に関する技術として、汚染物質の高感度計測に関する科学技術ならびに高感度コンタミネーションコントロールへの応用に資する科学技術を募集対象としました。

受賞者と受賞研究内容

授賞式

2009年10月19日(月)に京都大学芝蘭会館において

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