弊社創立50周年を迎えた平成15年、HORIBAグループは計測技術研究に従事する社外若手研究者を対象とした賞を創設しました。本賞は、画期的な分析・計測技術の創生が期待される研究開発に従事する国内外の研究者・技術者を支援し、これにより科学技術における計測技術の地位をより一層高めることに貢献しようというものです。分析・計測技術の中でも堀場製作所が育んできた原理や要素技術を中心に毎年対象分野を定め、ユニーク、かつその成果や発展性を世界にアピールすべき研究・開発にスポットを当ててゆきます。

2011堀場雅夫賞の対象分野は、分析・計測技術に広く求められる超高感度化・超高速化を達成するための要素技術とします。

分析・計測技術の発展、ひいては科学技術の発展の歴史は、高感度化・高速化の追求の歴史と言っても過言ではありません。米国においてナノテクノロジーが国家的戦略研究目標とされて１０年経った現在では、原子・分子スケールの現象を、ありのままの姿（リアルタイム）で分析・計測・応用される例が、学術分野を初めとして、産業界においても見られるようになりました。これらの発展を支えた技術としては、半導体プロセス技術、ＭＥＭＳ技術、原子・分子レベルまで制御された材料開発技術、分析・計測には欠かせない半導体レーザーなどの新光源技術、細胞中の注目する部位へのマーカー技術など、様々な技術が挙げられます。
これらの技術は、分析・計測技術の発展はもちろんのこと、昨今のエネルギー問題、資源問題、食糧問題など、地球が抱える大きな問題に解決の糸口を提供する人智の結晶であり、今後もますます重要になると考えます。

2011堀場雅夫賞は、このような背景から、超高感度化・超高速化を達成するための要素技術を募集テーマとして設定いたします。対象とする計測原理は、近赤外からX線までの波長領域の電磁波を利用した手法であり、計測対象は、固体材料や溶液、さらには生体細胞中に存在する幅広い物質を対象とします。最先端の科学技術を支える分析・計測技術の研究に従事され、将来の分析・計測技術発展の担い手となられる方の積極的な応募を期待しています。

2011堀場雅夫賞実行委員長 株式会社 堀場製作所 代表取締役副社長　石田 耕三